产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > 环境试验箱 > 电池真空烘箱 > 硅芯片无氧真空烤箱

硅芯片无氧真空烤箱

更新时间:2024-01-15

访问量:1077

厂商性质:生产厂家

生产地址:

简要描述:
硅芯片无氧真空烤箱,广泛应用于生物化学,化工制药、医疗卫生、农业科研、环境保护等研究应用领域,作粉末干燥、烘培以及各类玻璃容器的消毒和灭菌用。
品牌豪恩分类其他
产地国产

一、硅芯片无氧真空烤箱箱体规格

规格型号

内箱尺寸(W*H*Dmm)

外箱尺寸(W*H*Dmm)

真空泵

电源

HE-WD-300

300*300*300

1000*1580*920

4升

AC 220V 50Hz 3.5KW

HE-WD-400

400*400*400

1000*1580*920

4升

AC 220V 50Hz 4.5KW

HE-WD-500

500*500*500

1000*1580*920

4升

AC 220V 50Hz 5.5KW

HE-WD-600

600*600*600

1000*1580*920

4升

AC 380V 50Hz 9KW

HE-WD-700

700*700*700

1000*1580*920

8升

AC 380V 50Hz 12KW

HE-WD-800

800*800*800

1100*1680*1050

8升

AC 380V 50Hz 15KW

HE-WD-1000

1000*1000*1000

1350*1620*1300

8升

AC 380V 50Hz 20KW

箱体结构:连体式,真空泵置于机台下部;

隔层:内分二层,配网板二块,可活动抽出;

面板安装:控制面板安装于机台下方(如设备外观图);

开门方式:单由右至左开启;

可视窗:门上带可视窗,规格W250×H300mm;

内箱材料为:304#不锈钢工业板;内箱加强处理,抽真空不变形;

外箱材料为:冷轧钢板,厚1.2mm,表面烤漆处理;

保温材质为:耐高温岩棉,保温层厚100mm,保温效果好;

安装带刹车活动脚轮,可任意推动;

二、硅芯片无氧真空烤箱控温系统

温度范围:常温+30℃~200℃

控制精度:±0.5℃

显示精度:0.1℃        

箱内温度均匀度:±5℃%(无真空时,空箱测试)

升温速率:RT→100℃(约30分钟),200℃(约45分钟)

三、真空系统

真空度:0~-101KPa(≤133pa)

真空保压泄漏率:约0.8KPa每小时

采用高密封性的硅胶密封条保障整机的密封性;

采用数显示式真空表直接显示内箱真空度,让你即时了解箱体内的真空状态,真空度达到0--0.1Mpa (即:100pa真空度)

四、充氮气装置

1、调压阀:控制氮气压力,正常使用下氮气压力调为2.5公斤左右;

2、面板流量计:控制氮气进入箱内的大小,量程为10L/min-60Lmin;

3、氮气管道进入到箱内正后面,调压阀处预留8mm快插气管接口;

4、注:氮气由用户自备。

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7




粤公网安备 44190002002313号